第九届国际先进光刻技术研讨会特邀嘉宾介绍（一）

备受全球半导体行业关注的第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2025）正式官宣，将于10月14日-15日在深圳与湾芯展同期举办。

这场由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办的行业盛会，将汇聚全球光刻领域的顶尖专家、企业领袖与科研精英，共同探讨光刻技术前沿趋势，推动产业创新合作。

第九届国际先进光刻技术研讨会

特邀嘉宾介绍（IWAPS 2025）

特邀嘉宾

Prof. Bei Yu

香港中文大学计算机科学与工程学系教授

Bei Yu 博士现任香港中文大学计算机科学与工程学系教授。他曾担任ACM/IEEE CAD机器学习研讨会技术委员会主席，并在多家期刊编辑委员会和会议委员会任职。他荣获十一次最佳论文奖，分别来自：ICCAD 20244 & 2021 & 2013、IEEE TSM 2022、DATE 2022、ASPDAC 2021 & 2012、ICTAI 2019、VLSI Journal 2018、ISPD 2017、SPIE先进光刻技术大会2016；以及八次ICCAD/ISPD竞赛奖项。他曾荣获2021年IEEE CEDA Ernest S. Kuh早期职业生涯奖、2022年ACM SIGDA杰出服务奖、2024年DAC创新者奖，以及2024年香港研究资助局研究学者计划（RFS）奖。

演讲内容

伴随着集成电路技术的飞速发展与设计复杂性的持续攀升，可制造性和良率面临日益严峻的挑战。光刻工艺作为将设计图形转印至硅晶圆的关键环节，其建模与仿真成本因制造环境日益复杂多变而大幅增加。同时，作为设计流程核心环节的掩模优化，其重要性与成本也日渐凸显。本次演讲将探讨三个相互关联的领域：光刻建模的作用、光学邻近效应修正（OPC）、以及大规模OPC的实施方法。此次演讲将重点介绍应对这些挑战的最新进展，特别是深度学习技术的应用成果。此外，演讲将着重阐述深度学习在OPC技术中所能发挥的关键作用，并通过介绍深度学习在我们综合性掩模优化框架中的一个成功应用实例，展示该技术如何有效提升大规模OPC在半导体制造中的效能与效率。

第九届国际先进光刻技术研讨会

第九届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions）将于2025年10月14~15日在深圳举办，本次会议特别邀请到了香港中文大学的Bei Yu教授进行报告。

第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共赴这场光刻技术领域的学术盛宴！

IWAPS依托中国创新沃土，搭建全球交流平台。在国内外光刻专家的鼎力支持下，在全球企业、高校、协会等的共同推动下，IWAPS持续构建覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻、系统协同优化及新型技术等全产业链的尖端技术对话平台。

本届盛会特别依托深芯盟的产业集群优势，汇聚深圳及湾区半导体企业、高校与科研机构的协同力量；同时联动湾芯展的产业生态资源，为全球领军企业提供展示创新蓝图的舞台，为科研院所搭建核心技术攻关的交流通道，为青年学者创造技术思辨的活跃氛围，更为投资机构提供洞察粤港澳大湾区半导体机遇的前瞻窗口。

第九届IWAPS计划于

2025年10月14-15日在深圳

与湾芯展同期举办

请于10月13日报到

期待金秋十月与大家相聚！

欢迎各位学术和产业届的朋友

莅临指导，积极投稿演讲

与IWAPS 2025同期举办的湾芯展将于10月15日-17日在深圳会展中心（福田）举办，展会坚持“市场化、专业化、国际化、品牌化”的办展导向，以打造中国半导体产业生态第一展为目标，聚焦半导体全产业链生态构建，通过“展览展示、峰会论坛、奖项榜单、双招双引、研究报告”五位一体模式，有效推动产业资源整合与创新合作。与IWAPS 2025的联动，将为参会者带来“学术研讨+产业展示”的一站式体验，实现技术交流与产业对接的无缝融合。

“光刻人的世界”公众号近期将陆续对本次会议受邀嘉宾和他们带来的报告进行介绍，敬请大家关注。

芯启未来，智创生态

湾芯展2025与您相约！