SK海力士砸6万亿抢EUV,存储器要爆?

21ic电子网 2025-09-26 16:43
注:

一、核心金额换算(1 韩元≈0.005088 人民币)

总投资:6 万亿韩元≈305.3 亿元(超国内头部半导体研发投入 3 倍)
单台设备:3000 亿 - 5000 亿韩元≈15.26 亿 - 25.44 亿元(超中型航母造价)
材料需求:20 台设备激活50 亿元材料市场

二、规模对比

305.3 亿元≈:

2024 年中国半导体材料总产值 12%
全球 EUV 光刻胶市场年规模 1.5 倍
3 座现代化 12 英寸晶圆厂成本


一、设备争夺战:砸 6 万亿冲击全球前三

全球半导体行业正迎来一场 “光刻军备竞赛”,SK 海力士的出手堪称震撼。这家韩国存储巨头正以 “两年翻番” 的激进速度疯狂囤积 EUV 光刻机 —— 计划未来两年追加 20 余台设备,将总量从现有 20 台飙升至 40 台以上,直接跻身全球 EUV 保有量前三,与英特尔站在同一梯队。

SK海力士砸6万亿抢EUV,存储器要爆?图1

这场豪赌的代价高达 6 万亿韩元以上,每台 3000 亿至 5000 亿韩元的设备堪称 “印钞机级” 资产,而全球仅 ASML 能生产的垄断属性,更让这场扩产充满紧迫感。为抢得先机,SK 海力士正与 ASML 紧急协商加速交付,甚至考虑提前启动新生产线,清州 M15X 工厂年底投产后将率先搭载 EUV 设备,利川 M16 工厂则同步推进工艺转换。

在 ASML 年产能仅 90 台的背景下,SK 海力士的抢单动作直击行业痛点。要知道,台积电、三星等巨头早已排队抢购,而 SK 海力士自 2021 年首次将 EUV 用于 14 纳米 DRAM 后,此次扩产将彻底打破全球设备分布格局。

二、产业链震动:HBM 霸权与材料狂欢双爆发

这场千亿级投资的背后,是 SK 海力士对下一代存储霸权的野心。EUV 带来的 10 纳米级刻蚀能力,将直接赋能 HBM4 与先进 DRAM 量产 —— 年底投产的 HBM4 采用 1b 工艺,能效提升 40% 且能让 AI 性能暴涨 69%,而明年启动量产的 1d DRAM 更将冲刺 10 纳米以下制程。

这一布局精准卡位 AI 浪潮:英伟达 Rubin 平台急需 HBM4 供应,特斯拉、微软等巨头纷纷抛出订单,SK 海力士凭借先发优势有望稳占 60% 市场份额。反观竞争对手,三星 HBM4 测试落后两个月,美光坚持 “有限 EUV” 策略,SK 海力士正借设备红利拉开代差。

设备狂潮更激活了整条产业链。EUV 专用光刻胶需求激增,JSR、杜邦等供应商已接到扩产协商;默克、YCChem 的清洗液订单将同步放量。在 SEMI 预测 2025 年半导体设备市场增长 17% 的背景下,SK 海力士的 6 万亿投资正成为行业复苏的 “强引擎”。

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