目前，全球真正能够提供半导体前道制造所需光刻机的供应商仅有三家，分别是来自荷兰的ASML以及日本的NIKON和CANON。基于此，我所使用的数据正是整合了这三家公司的光刻机出货情况。
从相关图表中可以明显看出，最近两个季度，这三家供应商的光刻机总出货量呈现出显著下降的趋势。不过，具体到不同类型设备，情况又各有不同。
其中，EUV设备的出货量在最近三年时间里基本保持稳定，没有出现大的波动。同样，浸入式ArF光刻机的出货量也较为稳定。这一现象表明，全球高端制程的产能扩张速度依然维持在较高水平。
与之形成对比的是，干式ArF和KrF设备的出货量在最近两个季度出现了明显下滑。不过，这有可能是受到先进封装产能迅速扩张的影响。
另外，i-line光刻机的出货量表现不错，尽管Q2的数据有所下降，但整体情况依然较为乐观。
以下是三家公司各自的具体情况：
ASML
ASML的出货数量大幅下降，主要集中在干式ArF及更低端设备。然而，其设备的平均单价却依旧保持增长态势（见相关图表）。
并且，高端设备的收入占比较高，这使得其整体营收的发展趋势依然向好，几乎未受到机台出货数量下降的影响。
NIKON
作为曾经的光刻机王者，NIKON在最近两年似乎持续走下坡路。今年Q2，NIKON一台DUV设备都未能售出，i-line设备也仅出货了两台。
尽管Q1的数据还算可观，但从整体趋势来看，前景不容乐观。
CANON
与NIKON相比，专注于中低端KrF和i-line领域的CANON情况反而不错。从趋势上看，其光刻机出货量的增长态势较为稳定。
目前，从光刻机的出货数据来看，全球的晶圆产能扩张主要集中在高端制程领域，而成熟制程的复苏仍需等待一段时间。
附件：三家光刻机出货数据的统计表截图。
