10月23日消息，据台媒报道，随着技术节点进一步微缩 1.4 纳米（A14）及 1 纳米（A10），台积电面临新的制造瓶颈，该公司决定放弃采购单价高达 4 亿美元的 ASML 高数值孔径（High-NA）EUV 光刻机。

台积电正掀起一场 “技术豪赌”！面对 1.4 纳米（A14）、1 纳米（A10）制程的终极瓶颈，它直接拒绝了荷兰 ASML 单价 4 亿美元的 High-NA EUV 光刻机 —— 这可是行业公认的 “破局神器”，说不买就不买，直接颠覆行业预期！

不砸钱买 “神器”，偏走 “低成本野路子”

按常理，要啃 1 纳米、2 纳米的硬骨头，采购 ASML 的 High-NA EUV 光刻机是最直接的路。但台积电偏要反着来，把宝押在了 “光掩模护膜” 技术上，核心原因就一个：成本太炸了！

• 4 亿美元一台的光刻机，对谁都是天价。台积电算得明明白白：这设备现在能带来的价值，根本配不上它的价格，纯属 “花钱不讨好”。
• 光掩模护膜是啥？就是在现有 EUV 光刻机上 “加 buff”—— 给光掩模套层保护罩，挡住灰尘污染，靠这套操作硬冲更精密的制程，直接省下几十亿采购费。

省钱的代价：生产要 “死磕”，良率悬了

但 “野路子” 没那么好走，台积电这步棋也踩进了新坑。用老设备冲 1 纳米，技术难度直接拉满：

• 曝光次数要翻倍。想达到精度，得反复曝光好几次，生产节奏直接变慢，效率肉眼可见地降。
• 良率成了 “定时炸弹”。光掩模用得越频繁，出问题的概率就越高，芯片报废风险直线上升。
• 现在的台积电，等于抱着 “试错” 硬扛 —— 得靠无数次调试优化可靠性，这根本不是简单升级，而是一场赌上未来的技术攻坚战！

另一个隐情：ASML 产能 “卡脖子”

除了成本，ASML 的产能也把台积电逼到了墙角。要知道，ASML 每年顶多造 5-6 台 High-NA EUV 光刻机，数量少得可怜。

而台积电是什么量级？单靠标准 EUV 光刻机，它就得买 30 台才能喂饱苹果这些大客户的需求。要是把钱砸在没几台的 “稀缺货” 上，长期产能根本没法保证，这买卖怎么算都不划算。