EUV光刻机现身美国！三大巨头你争我抢

这一次，EUV光刻机真的开进了美国的工厂里！

那种你在ASML宣传片里才见过的巨兽级设备，如今正实实在在地运转在亚利桑那的荒漠中——闪烁的极紫外光，正在刻下“美国制造”的新篇章。没错，全球三大芯片巨头——台积电、三星电子、英特尔，正加速在美国本土上演一场“2nm争霸战”。

一、台积电

台积电一向神秘低调，但这次，它主动“炫技”了。

就在上周，台积电罕见地发布了一段视频，画面来自亚利桑那州凤凰城的Fab 21工厂内部。这可是台积电第一次公开美国工厂的EUV设备运行画面！视频里，可以清楚看到ASML的“光刻之王”——TwinScan NXE:3600D正在高速运转。这台设备价值高达1.6亿美元，是EUV光刻的核心装备之一。

台积电甚至还秀了一波“客户彩蛋”：“这里正在生产美国无晶圆厂公司的芯片，比如英伟达最新的GPU——Blackwell B300。”一时间，业内沸腾。这不仅是对英特尔近期高调宣布“18A工艺量产”的回应，更是对三星2nm计划的正面狙击。

二、三星

不甘示弱的三星电子也有大动作。它刚宣布，将两台“传说级”设备——高数值孔径（High-NA）EUV光刻机部署在美国和韩国。其中一台落地德克萨斯州泰勒工厂，另一台则留在华城研发园区。

这台Hi-NA EUV有多猛？相比目前主流EUV，它的光刻精度提升40%，电路形成精度提高1.7倍，芯片集成度提升近3倍。换句话说，它能刻出比人类头发丝还细上千倍的电路！

业内人士评价：“这是三星押注未来10年的最大豪赌。”而这场赌局背后，是三星重新找回“晶圆代工之魂”的决心。自全永铉回归半导体部门以来，三星的策略从保守转向激进。他们要在2nm以下的世界里，重新向台积电发起挑战。更妙的是，德州这条生产线并不只是技术炫技，它还关乎客户争夺战——特斯拉、AMD、英伟达、高通，都可能成为这条线上的潜在客户。

三、英特尔

当外界都以为英特尔已经掉队时，老巨头突然放了个大招。英特尔宣布，在亚利桑那州和俄勒冈州的两大晶圆厂（Fab 52 & 62）中，18A工艺已经进入量产阶段。

这意味着什么？意味着英特尔正在用行动告诉全世界：“美国的先进芯片，不只是台积电的专利。”英特尔的18A工艺将用于新一代PC与服务器芯片，包括即将推出的Panther Lake和Xeon 6+系列。首批出货就在今年底。这将是第一批完全在美国生产的最先进芯片。

英特尔的目标也很明确：在2026年前，将代工业务打造成台积电的正面竞争对手。有趣的是，传闻AMD也在接触英特尔代工，试探合作生产的可能性。“敌人的敌人，也许可以成为合作伙伴？”

过去十年，美国几乎丧失了先进制程的主导权。全球顶级芯片几乎都在台湾和韩国生产。但今天，这一切正在反转。台积电的EUV设备已经点亮亚利桑那夜空；三星的High-NA设备即将入驻德州；英特尔的18A芯片正从本土产线下线。这不仅是企业间的竞争，更是一次国家级的产业重构。

无论是台积电的稳、三星的敢，还是英特尔的狠，这一切都在预示：全球半导体格局，正被重新洗牌。当EUV光刻机的极紫外光闪烁在亚利桑那和德州上空，这不仅是一束光——它照亮的，是一个新“芯”时代的起点。

2nm战争，全面打响。胜者，将决定未来十年的科技命运。