ASML高管：十年前中国企业就在研发光刻机，但是他们迄今为止还是没有一个产品问世

十年前，有人把“光刻机”当成一场技术竞赛；今天，有人把它当成一块考验国家意志和产业链能否自立的试金石。近日ASML高管关于“中国在芯片制造上仍落后”的评论，再次把光刻机这个词拽到舆论的最中央——它像一面放大镜，把产业链、资本、人才和国家战略全部照见。

为什么光刻机不是单纯的设备，为什么过去十年某些努力没有换来一个合格的商用产品，而这正是中国人必须奋起的理由。

光刻机不是一台机器能解决的事。极端紫外（EUV）光刻机的核心，是光源、镜片、光学台、真空系统、极高精度运动控制、软件与材料的极致结合。它的每一个组件，都可能来自不同国家、不同公司的“世界级零件库”。ASML的高管曾公开指出，中国在最先进的制程与设备上仍有显著落差，这并非一句“落后论”能带过——它指向的是整个产业链和供应链长期被分割的现实。

这不是赚快钱能解决的事，也不是靠“模仿”就能以次充好的路可走。把光刻机做出来，从原理到量产，需要十年甚至更长的时间，需要在极其苛刻的误差容忍里把每一个工序做到极致。想象一下，0.1纳米级的误差容忍度意味着什么？这就是为什么世界上能做出EUV的，寥寥无几。

十年前，确实有企业、科研团队动手研发光刻机。他们拆开进口设备，试图复制关键部件；他们在实验室里日夜攻关，绘制出一页页工程图纸。然而，“有努力”并不等于“有产品”。有媒体报道，逆向工程的尝试甚至导致精密组件被损坏，相关团队不得不寻求外部支持。此类挫折暴露的不是能力的全部，而是我们曾经高估了模仿能带来的广度与厚度。

更重要的是，从“样机”到“商用产品”的距离，往往比从理论到样机的距离还要远得多。

样机能在实验台上一闪而过，商用设备要在无数家工厂、无数个批次中稳定工作多年。很多团队在样机阶段就被现实拖住——供应商无法稳定提供高精度部件、软件长期未能通过工业级验证、系统集成出现致命不稳定。结果是：十年前开始的那些努力，很多没能换来一个被市场检验的合格产品。

有人把问题归咎于“被限制出口”，这一点确实存在：对EUV和部分高端DUV设备的出口限制，限制了中国获取最顶尖整机与关键部件的渠道；ASML高层也多次强调，出口管制确实对中国部分企业的进步构成影响。

只是，限制并不是全部借口，真正能把限制化为动力的是系统性的组织能力、长期的产业投入与顶层设计。让任何外部压力不是成为拖慢进步的理由，而是催化剂。

看到别人在关键技术上比你领先，不是自我否定的理由，而是点燃全国资源、人才与资本，形成真正长期投入的理由。中国在材料、封装、存储等很多环节已经建立起显著优势；如果光刻机这道最硬的堡垒被攻破，那将是产业链真正崖式翻盘的开始。

我们需要的，不是民族主义的自嗨，也不是自怜的抱怨；我们需要的是：既要承认差距，也要把差距变成我们的火种。ASML高管的那句话，听起来像刺耳，但的确是现实的诊断；它也像一把点燃的火柴，提醒每一个中国工程师、企业家、决策者：我们有能力，但还没有把能力完全转为可复制、可量产、可商用的产品。真正的胜利不在于用情绪去回答质疑，而在于用十年、二十年的坚持，把样机变成千台，写出属于中国的光刻机故事。

现在，站在这个时间节点上，中国既可以继续抱怨被限制，也可以把“被限制”作为压舱石，化作更大的投入与协同。历史会记住那些不仅嘴上愤怒、而且脚踏实地把怒火变成产线和工厂的人。当那一天到来，我们不会再讨论“十年前有人在做却没有产品”的遗憾，而会庆祝：中国造出能站到世界舞台中央的光刻机。