最近几天，一则令整个产业链心头一紧的传闻在国内外媒体和行业圈里疯传：日本或已对华光刻胶（photoresist）出口进行实质性管控，甚至“全面停供”的说法被反复提起。光刻胶，这个普通读者听起来无关痛痒的东西，却几乎决定了一座工厂命运。日本的断供，让它瞬间变成了舆论场上的关键词。 PART.01 何谓光刻胶 光刻胶是光刻工艺中决定图形成像质量、线宽控制、良率高低的核心化学材料。没有合格的高端光刻胶，再好的光刻机也难以打出稳定的芯片良率。换句话说：光刻机是“刀”，光刻胶是“刃”——少了刃，刀再贵也砍不动高精度的电路。 而负责生产这些高端光刻胶的，是以日本企业为主的全球寡头格局。行业报告与媒体多次指出，日本企业（如 JSR、Tokyo Ohka Kogyo、Shin-Etsu Chemical、三菱化学等）长期占据全球高端光刻胶市场的绝对份额——有媒体估算日本在整体市场占比超过 70%，在极紫外（EUV）高端光刻胶上甚至接近 90% 以上的主导地位。 因此，一旦日本以出口管控或企业自发限制对华供货作为政治与贸易工具，短期内对中国高端芯片制造体系造成冲击，确实是实打实、可以“掐死脖子”的那种冲击。多家媒体与分析人士在近期都做出了类似警示：若高端光刻胶供应受限，中国相关晶圆厂在先进节点（尤其 7nm、5nm 及以下）产能与良率上会遭到严重影响。 PART.02 日本的优势 日本的优势不是一朝一夕堆出来的：几十年积累的化学工艺、与半导体制造商（尤其日本、韩国与台厂）的紧密合作、极高纯度原料的长期供应链、以及对EUV/ArF等不同波段配方的掌控，构成了难以短期替代的壁垒。正因为如此，日本在“用贸易手段做政治”时，能拿出具有高影响力的筹码——光刻胶就是其中之一。多个外媒与行业白皮书都强调：日本高端光刻胶在全球供应链中的不可替代性。 另一方面，日本也在平衡与盟友的安全考量、与本国企业风险暴露。对日企业而言，合规与政治风险、对关键国家的出口限制都可能是被动或主动的决策因素——这正是“技术寡头+地缘政治”造成的双重脆弱性。 PART.03 认清差距，奋起直追 重要的是：事情并非只有绝望。过去 2 年来，中国在光刻胶领域的投资与研发并非毫无收获。TrendForce、Tom’s Hardware 等多家机构报道，中国光刻胶企业（包括一些专注于 ArF、KrF 等中低端及部分高端配方的厂商）已实现量产或拿到部分订单，部分国产光刻胶在 ArF/ KrF 波段开始替代进口，用于成熟节点与部分中端产线。并有报道列举了例如湖北某些企业（报道以 Hubei Dinglong 等为例）在 ArF、KrF 光刻胶上取得量产与订单的进展。 国内也出现了“从0到1”的科研突破案例：高校与企业联合攻关配方、工艺稳定性与材料纯度控制，已有论文与产业化路标。然而——差距仍然很大，尤其是在EUV（极紫外）光刻胶这一最难啃的“硬骨头”上。国际估算显示，中国在高端 E UV 光刻胶的本地化率直到近期仍然极低（在 2022 年曾被估为不足 5%）；从工艺复杂度、原料纯度、配方可重复性、产线良率与长期稳定性来看，要完全替代日本厂商还需要相当长的时间与持续投入。 “至少还差二十年”这样的论断，听起来刺耳但并非完全空穴来风。把时间拉长来看，关键因素包括： 1.基础化学与材料积累的时间成本：能够稳定生产高端光刻胶，不只是单一配方，而是一整套原料制备、纯化、配方工程、长期可靠性验证的体系，这需要反复验证与大量资金与人才积累。 2.设备与测试生态：高端光刻胶需要与高端光刻机（光源、投影系统、浸润技术等）协同优化，这一生态长期由荷兰、日厂、欧美研究院占据。 3.产业链与供应商网络：上游原料、溶剂、薄膜制备设备、高纯度分析仪器等都需要可靠供应。缺一不可。 4.受制于外部政策的不确定性：即便短期内中国实现某些技术突破，外部限制（如设备、关键前体化学品）仍然可能成为新的“卡脖子”节点。 综合这些，保守估计需要很长时间去全面关闭差距——因此“二十年”式的悲观论调虽有夸张，但其背后的逻辑并非全然谬误。我们必须正视长期性挑战，而不是靠一句“攻克难关”就全然乐观。 PART.02 愤怒是起点，自强是归处 读到这里，你可能会感到愤怒：为什么我们在如此关键的基础材料上如此依赖外部？为什么几十年来没有把这类关键原料做到自给自足？这份愤怒是合理的，但愤慨不能代替行动。更应该把愤慨转化为国家层面的清醒与自强： 激活科研体制、集中资源补短板、把那些“关键核心技术”做成国家名片，而不是让一两家外企的一个开关就能牵动千亿级别产业的命运，这是这次事件带给我们的最沉重但必要的教训。
