7月28日消息，美国科技商业媒体《信息报》于当地时间7月27日发布报道，一家国内企业已经开启国产首款浸润式深紫外（DUV）光刻机小批量试产。按照企业规划，今年会向中芯国际、华虹半导体、长鑫存储三家国内头部晶圆厂交付合计约5台设备；到2027年，产能计划提升至每年20台左右。
有两位不愿公开身份的业内知情人士透露，这家光刻机厂商总部设在上海，现阶段浸润式DUV机型已经迈入批量生产阶段。浸润式DUV是台积电等全球主流芯片工厂普遍在用的核心生产设备，成熟制程芯片制造高度依赖这类机型。
为加快整机研发落地速度，这家企业整合收拢了国内多家机构的浸润式DUV研发团队，其中就包含有政府扶持的芯片设备初创公司上海昱量升技术。
这款国产光刻机主打适配28纳米成熟芯片量产，依靠多重图形曝光工艺做技术延伸，也能够支撑7纳米工艺芯片的生产制造。一旦该设备稳定跑通国内产线量产，有望在很大程度上替代当下大量进口的阿斯麦光刻机，打破海外设备的供货垄断。
长期以来，荷兰阿斯麦（ASML）把持着全球浸没式DUV光刻机市场，是全球光刻机最主要的供货方。这条国产设备量产消息流出后，阿斯麦美股开盘遭遇明显抛压，股价大幅跳水，盘中最大跌幅超过8%，期间还出现短暂交易暂停。
多家行业分析观点提到，国产浸润式DUV落地量产，代表国内半导体设备国产化又迈出关键一步。既能降低国内芯片工厂对海外光刻设备的依赖，也能对冲美国、荷兰出口管制带来的供应链压力。
