补齐PVD与刻蚀版图！半导体设备龙头筹划收购

半导体设备龙头拓荆科技于近日发布公告，公司正筹划以发行股份及支付现金的方式收购无锡尚积半导体控股权。此次收购意在进一步拓展拓荆科技在半导体薄膜沉积与刻蚀领域的业务布局。

从并购协同性来看，此次拓荆科技计划收购无锡尚积控股权，或为补齐自身在设备平台上的最后一块拼图，加速向综合性平台型设备巨头迈进。

年报显示，拓荆科技目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等薄膜沉积设备产品，以及混合键合等三维集成设备产品，广泛应用于芯片、功率器件等领域。但在半导体前道制造的两大关键工序——物理气相沉积（PVD）和刻蚀（ETCH）领域，拓荆科技此前的布局相对较少，这也成为其向平台型企业进阶路上待补的一块拼图。

而本次收购标的无锡尚积，恰能填补这一缺口，这家成立仅5年的新秀企业，在PVD和刻蚀领域积累了深厚的技术储备。公告显示，无锡尚积的主要产品包括PVD、ETCH、CVD等核心半导体设备。

据公开报道，无锡尚积的氧化钒（VOx）薄膜沉积、RF领域薄膜电阻关键工艺如氮化钽（TaN）等薄膜沉积、TC-SAW SiO2薄膜沉积、高真空吸气薄膜（Getter）沉积在客户端已经实现量产。2024年，该公司开发出300mm PVD和CVD设备，并交付国内某头部客户。

凭借在细分领域的硬核技术实力，无锡尚积成立以来备受资本青睐。

仅2025年一年，无锡尚积就密集完成了三轮数亿元级别的融资，全年累计融资额超过5亿元。其背后的投资方阵容堪称豪华，不仅有中车资本、江苏省战略性新兴产业母基金、广州产业投资控股集团等“国家队”和地方国资的鼎力支持，还吸引了君联资本等知名市场化VC/PE的积极参与。

经初步测算，本次交易不构成重大资产重组，亦不构成关联交易，不会导致公司实际控制权变更。拓荆科技还在公告中提示，目前本次交易正处于筹划阶段，交易各方尚未签署正式协议，具体交易方案仍在商讨论证中，尚存在不确定性。

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来源：湾芯展综合整理

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