UFS 5.0移动存储商用进入倒计时!

全球半导体观察 2026-07-31 13:51

7月29日,铠侠宣布开始出货UFS 5.0嵌入式闪存商业样品,距离今年2月交付功能评估与互操作性测试样品仅五个月。


这一进展意味着该标准的产品化进程已进入量产前的最后验证阶段。


三星电子已于6月正式发布其UFS 5.0解决方案,并计划于第四季度启动量产。而在更早的2025年8月,美光已宣布停止移动端NAND闪存研发,转向企业级AI存储。UFS 5.0作为JEDEC于2026年2月发布的新一代嵌入式存储标准,正从技术规范加速走向实际商用,三大厂商的不同选择也勾勒出移动存储市场的新格局。


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标准升级:

性能翻倍、能效优化与可靠性增强


如果说UFS 4.0时代解决的是“够快”的问题,那么UFS 5.0要回答的则是“如何在快的同时兼顾全场景”的命题。


端侧AI的到来,让存储不再只是被动的数据仓库,而是需要实时响应模型加载、高频碎片读写和持续大流量传输的主动参与者。


基于这一需求变化,UFS 5.0在标准制定时并没有将全部筹码押在顺序速度上,而是从带宽、随机响应、功耗控制、物理空间到数据安全多个维度同步推进,力求在提升峰值性能的同时不牺牲实际使用中的稳定性和续航表现。


UFS 5.0顺序读取速度最高达10.8GB/s,顺序写入最高达9.5GB/s,相比UFS 4.1(读取约4.2GB/s,写入约2.8GB/s)提升一倍以上;随机读取性能提升约5倍,随机写入提升约2倍——后者对于端侧AI的意义甚至更为直接,因为本地大模型的参数加载、多模态助手的实时推理,本质上都是由大量小数据块的频繁调用构成的,而并非单纯的大文件顺序搬运。


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底层架构方面,物理层采用MIPI M-PHY v6.0,支持HS-Gear6模式与PAM4信号编码,单通道速率达46.6Gbps,双通道理论带宽可达10.8GB/s;链路层升级至UniPro v3.0,旨在减少传输延迟。能效优化上,通过时钟门控、多电压供电及独立电源轨(VCCQ_M)等技术,同等读取性能下能效较UFS 4.1提升约40%,这对于手机、XR头显等电池敏感型设备而言,意味着高负载场景下的发热和续航压力有望得到一定缓解。


封装尺寸缩小至7.5mm×13mm×0.9mm,体积缩减约16.7%,最高容量支持1TB,为设备内部布局提供了更多腾挪余地——在旗舰手机内部,每平方毫米的空间争夺都直接关系到电池容量或相机模组的取舍。


安全与可靠性方面,新增内联哈希(Inline Hashing)技术用于实时数据完整性校验,链路均衡(Link Equalization)技术可补偿高速传输中的信号衰减,降低数据丢包风险。


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厂商动态:

三星与铠侠各推方案,美光战略转向


在标准发布后的半年内,头部厂商的落地节奏已逐渐清晰。三星电子于2026年6月23日正式发布基于第9代V-NAND技术的UFS 5.0存储方案,顺序读写分别达到10.8GB/s和9.5GB/s,随机性能及能效均较前代有所提升,封装尺寸为7.5mm×13mm×0.9mm,最大容量1TB。量产计划定于2026年第四季度,首批应用瞄准旗舰智能手机,并计划扩展至XR头显和AI可穿戴设备。


铠侠则于7月29日推出商业样品,其方案采用自研主控与第8代BiCS Flash 3D闪存,顺序读取最高10GB/s、顺序写入最高9GB/s,提供512GB和1TB两种容量,封装尺寸同样为7.5mm×13mm,并特别强调增强型热管理设计以保障高速读写稳定性。铠侠预计于2026年底开始量产,覆盖AI手机、AI平板、XR设备和机器人等多元端侧AI设备。


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上述两家厂商在参数上各有侧重:三星在峰值速率上略有领先,而铠侠更强调热管理和实际应用适配。


美光则于2025年8月宣布全面停止移动端NAND闪存(含UFS 5.0)的研发,将战略重心转向企业级AI存储(如HBM、企业级SSD)等领域,因此UFS 5.0时代的市场竞争将主要在三星与铠侠之间展开。


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量产计划与应用前景


根据公开信息,三星和铠侠的量产时间均集中在2026年第四季度及年底,届时UFS 5.0有望逐步导入旗舰智能手机、XR头显、AI可穿戴设备以及部分机器人和智能汽车等终端。


业界认为,端侧AI应用(如本地大模型加载、实时多模态交互)对存储带宽和随机响应能力的需求,是推动UFS 5.0落地的主要驱动力之一。


不过,实际商用节奏仍取决于终端厂商的导入进度、成本控制以及整体系统适配情况——例如,主控芯片、接口协议和操作系统层面的协同优化需要时间,预计2027年之后市场渗透才会逐步扩大。


总体来看,UFS 5.0代表了移动存储在性能、功耗和空间利用率上的综合演进方向,其市场表现尚需观察后续量产交付和终端产品的实际反馈,但可以肯定的是,端侧AI对存储性能的倒逼正在加速这一技术的普及进程。


   




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