大话芯片讯 9月2日 —— 台湾地区高等检察署近日对一起震惊半导体行业的商业机密泄露案采取重大法律行动：三名涉嫌窃取台积电2纳米制程核心技术资料的工程师已被正式起诉，案件已移送台湾知识产权法院审理。
涉案人员为陈力铭、吴秉骏与戈一平，检方建议对其分别判处7至14年有期徒刑。三人到庭时全程沉默，未回应媒体提问，此为事件曝光后首次公开露面。
离职工程师勾结旧同事，长达一年半持续窃密
据台湾联合新闻网报道，该案核心人物陈力铭曾任职于台积电12厂良率部门，深度参与先进制程技术工作，熟悉公司保密机制。2023年下半年离职后，他加入台积电关键设备供应商——日本东京电子（TEL）担任行销职务。
检方调查发现，陈力铭利用与在职工程师吴秉骏、戈一平的旧日关系，自2023年下半年起，持续逾一年半时间，多次要求二人非法获取台积电内部核心技术资料。
吴、戈二人通过拍摄、复制等方式，将涉及2纳米制程的关键参数、工艺流程等敏感信息传递给陈力铭，后者再转交东京电子，用于优化其蚀刻机设备性能。
台积电主动发现异常，内部监控成“防火墙”
此次泄密事件得以及时遏制，得益于台积电强大的内部风控体系。公司通过数据访问日志监控，发现吴秉骏与戈一平存在异常调阅核心资料的行为，随即启动内部稽查，在固定证据后迅速向检方报案。
台湾检方经数月调查，调取通讯记录、文件传输痕迹及电子设备数据，确认三人行为已构成《营业秘密法》与《刑法》中的“窃取营业秘密罪”，且情节重大，危害台湾半导体产业竞争力，主张依法从重惩处。
2纳米制程：全球仅四家竞逐的技术高地
2纳米制程目前仍是全球半导体产业的“技术珠峰”，全球仅有台积电、三星、英特尔、日本Rapidus四家企业明确投入研发。台积电原计划于2025年下半年启动2nm量产，被视为延续其先进制程领先优势的关键一役。
此次核心技术外流，不仅可能影响台积电量产节奏，更可能为竞争对手提供技术参考，尤其在蚀刻精度、良率控制等关键环节，存在被“逆向借鉴”的风险。
尽管目前尚无证据显示技术已流入三星或中国大陆企业，但泄密事件本身已引发业界对供应链安全与人才流动风险的高度警惕。
设备商卷入风波，产业链信任面临考验
值得注意的是，此案首次将半导体设备供应商推上风口浪尖。东京电子作为全球领先的半导体设备商，虽未被直接起诉，但其员工涉嫌接收并利用台积电机密信息，可能对其与台积电长期合作关系造成冲击。
业内专家指出，随着制程微缩对设备依赖加深，设备商与晶圆厂的技术互动日益紧密，如何在合作中守住“信息防火墙”，将成为产业链安全管理的新课题。
结语：技术护城河，始于制度，毁于疏忽
台积电以严密的知识产权保护体系著称，此次仍被“内鬼+旧谊+外力”链条突破，敲响警钟：再先进的技术护城河，也可能因一人之私、一次信任滥用而出现裂痕。
此案不仅是一起刑事案件，更是对全球高端半导体生态安全的一次警示——技术竞争，最终是制度、文化与执行力的竞争。
编辑｜大话芯片
信息来源：台湾联合新闻网、检方起诉书
