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9月10日，一则关于半导体行业的重磅消息引发广泛关注：日本东京威力科创（TEL）公司社长兼执行长河合利树现身中国台湾，并与台积电董事长暨总裁魏哲家进行了一场闭门会晤，外界猜测此举或是为2nm技术泄密案向台积电致歉。
当日，备受瞩目的2025年SEMICON Taiwan国际半导体展在台北南港展览馆一、二馆盛大开幕，这场汇聚全球半导体产业目光的盛会本应热闹非凡。然而，河合利树的缺席却成为外界聚焦的焦点之一。据悉，河合于昨日下午未出席展会相关活动，而是直奔新竹，与魏哲家展开了一场秘密会谈。
TEL作为全球半导体设备领域的核心供货商，台湾地区是其至关重要的市场，而台积电更是其重量级客户。此次河合利树专程赴台，知情人士透露，主要目的便是就此前TEL前陈姓工程师涉嫌泄露台积电2nm技术机密一事，向魏哲家当面表达歉意，并阐述公司对于后续善后事宜的初步规划。不过，由于此次会谈为闭门进行，具体内容尚未对外披露，各方仍在等待TEL方面给出进一步说明。
回顾此前报道，台积电2nm芯片技术外泄事件曾震惊业界。涉案的3人已被检方起诉，分别面临14年、9年和7年的徒刑。其中，主要嫌疑人陈姓男子曾是台积电工程师，对公司严格的保密制度以及与供应商签订的保密协议了如指掌。
- 涉案主体
主要嫌疑人：陈姓男子（前台积电工程师，现任TEL员工） 关联方：台积电（技术持有方）、TEL（设备供应商）、其他两名涉案人员（具体身份未公开） - 泄密手段与路径
陈某利用旧同事关系，多次索取台积电2纳米蚀刻站机密文件及数据 通过拍摄、复制等手段获取技术资料，用于TEL设备性能改进 涉及台积电严格保密制度及供应商保密协议的违规操作 - 法律后果与处罚
涉案3人被检方起诉，分别要求判处14年、9年、7年徒刑 案件涉及知识产权侵犯、商业秘密盗窃等刑事指控
离职后，他加入日本半导体设备巨头TEL公司，并凭借与旧同事的关系，多次索取2纳米蚀刻站的相关机密文件和数据，通过拍摄、复制等手段获取信息，妄图帮助TEL公司改进设备性能。
此次河合利树的紧急赴台，无疑凸显了2nm技术泄密事件对TEL与台积电关系的重大影响。在半导体行业竞争日益激烈的当下，技术机密关乎企业的核心竞争力与市场地位。TEL如何妥善处理此次危机，修复与台积电的合作关系，以及后续将采取哪些措施防止类似事件再次发生，都成为业界关注的焦点。而台积电在面对这一事件时，又将如何维护自身权益，保障技术安全，同样值得持续关注。
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