密会台积电总裁魏哲家，为窃密案当面致歉
惊爆！TEL 前员工勾结台积电在职人员，窃取全球顶尖的 2nm 半导体技术，掀起行业地震。
9 月 10 日，TEL 社长河合利树紧急飞赴新竹，密会台积电总裁魏哲家，为窃密案当面致歉，此时恰逢 SEMICON Taiwan 2025 展期，河合利树全程低调避公开，举动引全网紧盯。
案情震撼：前台积电工程师入职 TEL 后，为突破 2nm 蚀刻机性能，联合两名台积电员工盗机密，三人已被起诉解雇。
中国台湾检方正追查是否有日本企业幕后指使，若工业间谍罪成立，三人将面临 7 至 14 年重刑。
台积电 2nm 技术是全球半导体 “王冠”，此案被认定威胁地区安全。
台积电 7 月 8 日报案后，调查局火速展开两轮搜查，现已拘押嫌疑人。
近年中国台湾高科技屡遭技术窃密，为此修订安全法案，将 14nm 以下制程等 32 项技术列入保护清单，经济间谍最高可判 12 年、罚 1 亿新台币。如今 TEL 致歉能否平息风波？半导体产业格局又将生变？
