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会议议程
报名名单（部分）
会议基本信息
会议内容
本次会议讨论内容涵盖极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿光刻技术的最新研究进展与应用前景；同时，深入剖析光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等光刻材料的国产化现状与技术瓶颈，探讨如何通过技术创新与产业升级，提升国内光刻材料的自给率与质量水平；
此外，光刻设备作为半导体制造的核心装备，其国产化进程中的关键问题与解决方案也将是讨论重点，包括设备研发、制造工艺、性能提升以及市场情况等。
会议亮点
• 20+光刻产业链嘉宾演讲：主题演讲+细分专题上下游深入互动。
• 三大专场：涉及先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备，覆盖整个产业链，为产业提供新思考、新展望。
• 学术研讨：设置光刻技术学术与研发主题，铸就产业发展之理论基石。
• 会+展形式：深度探讨行业现状协同发展前景，构建产业互动平台，提供上下游供应链对接。
会议费用与报名
费报
酒店预订
会议酒店：合肥新站利港喜来登酒店
地址：合肥市新站区铜陵北路1666号
房间预定电话：邱阳15357908260
注：报2025第五届势银光刻产业大会或势银可享受协议价
交通方式
会议背景
光刻技术作为半导体制造的关键环节，重要性不言而喻。光刻技术通过将设计好的微小图形从掩模版转移到硅片上，为后续的蚀刻、掺杂等工艺奠定基础，其精度和效率直接决定了芯片的性能、集成度和生产成本，是推动半导体产业不断向更高性能、更小尺寸发展的关键力量。
目前我国光刻产业的发展面临着诸多挑战。在光刻胶领域，国内高端光刻胶自给率低，研发和生产技术与国际先进水平有差距，产品性能和质量难以满足高端芯片制造需求。湿电子化学品方面，部分高纯度、特殊配方产品依赖进口，供应受限。掩模版的高精度制造技术难度大，高端掩模版原料主要依赖进口，供应受制于人，其快速修复和更新技术有待提升。光刻机更是被国外垄断，高端光刻机如EUV光刻机难以获得，国内光刻机企业在技术水平、制造精度、光源系统等方面与国际先进水平存在较大差距，成为制约我国半导体产业发展的“卡脖子”环节。
在全球地缘政治摩擦加剧的背景下，半导体产业供应链安全受到严重威胁。为应对这一挑战，我国急需加强光刻技术及相关产业的自主可控能力。2025势银光刻产业大会，旨在汇聚国内光刻技术领域的专家学者、企业代表、行业精英，共同探讨先进光刻技术、光刻材料及设备的最新进展、面临的挑战以及解决方案。通过大会，可以促进产学研用的深度融合，加强国内科研机构、高校、企业之间的交流与合作，加速技术创新和成果转化，推动光刻技术及相关产业的升级发展。同时，大会也将为产业链上下游企业搭建沟通桥梁，促进资源整合和优势互补，构建完整的产业生态体系，提升光刻产业的整体竞争力。
基于此，势银（TrendBank）将于2025年7月9日-10日举办“2025势银光刻产业大会”。
上届回顾
简称：PRIC
2024势银光刻材料产业大会
2024 Trendbank Photoresist Materials Industry Conference
点击查看上届会议现场报道：
◆ 图文版
*来源：势银芯链
芯启未来，智创生态
