长鑫存储产能逼近美光,DUV多重曝光突围高端DRAM市场

科技区角 2026-07-14 13:31

【科技纵览】中国本土内存巨头长鑫存储(CXMT)近期的扩张速度令全球半导体行业侧目。据Citrini Research最新研报显示,这家新兴企业正迅速成长为DRAM市场的强力竞争者,其制造体量已具备与行业老牌巨头美光(Micron)正面抗衡的实力。若现有扩产计划顺利落地,至2026年底,长鑫的DRAM晶圆月产能预计将攀升至约35万片。



这一数字极具冲击力。作为参照,同期完成预期扩产的美光,月产量预估约为37.5万片。对于一家旨在满足国内庞大需求而快速崛起的企业而言,能在短时间内达到如此规模,实属罕见。更令人惊讶的是其基建效率:长鑫洁净室的建设周期仅耗时约12个月,远低于全球主要DRAM厂商通常所需的21至24个月平均水平。

尽管面临美国制裁导致无法获取先进极紫外(EUV)光刻设备的困境,长鑫并未止步。通过深紫外(DUV)光刻技术与多重曝光工艺的精妙组合,公司成功实现了技术层面的突围。目前,基于G4节点的16Gb DDR5芯片已开始出货,运行速率高达8000 MT/s,且芯片面积较上一代缩减了20%。此外,24Gb模组及LPDDR5X-10667等高端产品也已步入量产阶段。

值得注意的是,当前长鑫的大部分产能主要由人工智能(AI)领域激增的需求所驱动。与此同时,中国政府正积极推动长鑫将其DRAM技术知识产权向JHICC、Swaysure以及扬杰科技旗下XMC等国内其他厂商授权转移。此举不仅意在缓解国内市场内存供应紧张的局面,更是为长鑫自主DRAM产品未来进入欧盟、美国等全球主流市场铺平道路,展现出一种以技术换市场的战略智慧。

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