近日，国务院总理李强签署第842号国务院令，公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）。修订后的《条例》共6章54条，将于2026年10月15日正式施行。8月3日，司法部、国家知识产权局相关负责人就《条例》修订工作接受记者采访。
现行《条例》于2001年出台实施，在保护集成电路布图设计专有权、激发产业创新活力方面发挥重要作用。此次修订，一是贯彻落实党中央和国务院关于加强知识产权法治保障的决策部署，强化集成电路布图设计保护和运用。二是聚焦当前突出问题，完善集成电路布图设计登记、保护和管理有关制度，将实践中行之有效的做法上升为行政法规。三是与有关法律法规、国际条约做好衔接。
此次修订的主要内容包括以下四个方面。一是明确总体要求。规定集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署，扩展保护范围，强调诚实信用。二是完善申请、审查程序。规制虚假申请，细化材料要求，完善驳回、撤销程序，增加权利恢复程序。三是加强专有权保护。明确权利范围界定标准，加大侵权赔偿力度。四是促进布图设计运用。加强公共服务，明确奖酬措施，完善转让、许可、出质要求，规范共有人权利行使。
下一步，相关部门将持续做好《条例》宣传解读与配套制度完善工作，稳妥推进各项规定落地实施，进一步健全集成电路布图设计创造、保护、运用制度体系，为我国集成电路产业创新发展提供坚实法治保障。
