【科技24时区】数十年来,半导体行业的演进逻辑近乎单一:通过不断缩小硅晶体管尺寸、在单颗芯片上堆叠更多元件来换取性能提升。然而,这种物理层面的极致压缩正逼近临界点——电子流控制难度呈指数级上升,漏电、功耗激增与散热难题如影随形。当传统硅基路径日益逼仄,新加坡初创企业Nexstrom试图换道超车。这家由Xora Innovation孵化的公司认为,用二维(2D)材料替代硅,或许是破解当前困境的一把钥匙,尤其是在数据中心需求引爆全球组件短缺、且这一趋势未见缓和之际。
值得注意的是,这里所谓的“二维”并非几何意义上的绝对平面,而是指过渡金属硫族化合物(TMDs)这类材料薄至仅几个原子层厚度。正是这种极致的纤薄特性,使其被归入“2D材料”家族,并吸引了渴望进一步微缩芯片尺寸的制造商目光。Nexstrom的核心野心在于制造一种名为“North Star”的设备,旨在让晶圆厂能够直接在商业通用的300毫米(12英寸)晶圆上生长这些超薄半导体。这不仅是材料的革新,更是制程工艺的颠覆。
当然,嗅到这一风向的并非只有Nexstrom一家。台积电、英特尔以及比利时微电子研究中心(IMEC)均在探索将2D材料整合进晶体管的路径;AIXTRON、CDimension等设备与材料厂商也在攻克制造链条的其他环节。此前,台积电、ASML与IMEC甚至联合展示了2D材料晶体管在300毫米集成工艺中的应用潜力。但在巨头林立的赛道中,Nexstrom选择了一个更为棘手的切入点:规模化生产。
“在实验室里,人们能获得极小尺寸的高质量材料,但规模极其有限。”Nexstrom联合创始人兼首席科学家Lance Li向TechCrunch坦言,“这正是Nexstrom要填补的空白。”Li曾在台积电主导后硅时代电子学研究,自2012年起便深耕2D材料领域。基于此技术积淀,该公司于周二宣布完成1200万美元种子轮融资,投资方包括Xora、Foothill Ventures及SEEDS,累计融资额达1500万美元。
与直接挑战台积电、三星或英特尔不同,Nexstrom的定位更偏向于“军火商”——向这些巨头出售技术或建立合作伙伴关系。尽管出于保密协议未透露具体名称,但公司证实已有行业伙伴正在测试其晶圆与材料样品。不过,从实验室走向量产仍横亘着诸多障碍,其中最核心的挑战在于如何在全尺寸晶圆上实现TMDs的一致性生长。
Nexstrom首席执行官Phoebe Tan表示,现阶段的工作重心是交付符合行业伙伴指定标准的材料质量。“我们已在刚安装的12英寸系统上证明了晶圆上的材料成果。我们已经系统性地将规模从2英寸扩展至6英寸,并计划在10月底前完成8英寸和12英寸的工艺验证。”这笔新注入的资金将被用于深化技术研发、推动设备接近商业化生产,同时加强过程控制与测量能力,扩充团队,并支持潜在客户的资格认证程序。按照规划,Nexstrom预计其设备将在2030年至2035年间具备商业化生产能力。
从某种角度看,这场关于“厚度”的革命,实则是对算力瓶颈的一次深层回应。当硅的物理极限日益清晰,谁能率先打通2D材料从微观实验到宏观量产的“最后一公里”,谁就可能掌握下一个十年半导体产业的话语权。
硅基极限下的突围:Nexstrom押注二维材料,欲解芯片“摩尔定律”焦虑
科技区角
2026-09-23 00:03
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