第九届国际先进光刻技术研讨会特邀嘉宾介绍（四）

特邀嘉宾

               

Dr. Hideaki Tsubaki

FUJIFILM Corporation

Dr. Hideaki Tsubaki 是富士胶片公司光刻胶开发团队经理。他于 2001 年毕业于埼玉大学并获得硕士学位。随后进入东京工业大学并于 2004 年获得博士学位。之后，他加入了富士胶片研发管理总部。他参与了 4 年的 ArF 浸没式光刻胶开发，并发明了负显影工艺，该工艺现已成为下一代光刻技术的业界标准。2008 年至 2015 年间，他领导了EUV 光刻胶的早期开发，并在为面向量产化而改善“分辨率-线宽粗糙度-灵敏度”（RLS）权衡关系方面发挥重要作用。2016 年至 2021 年间，作为经理，他主导研究用于CMOS图像传感器和 3D-NAND 存储器的高分辨率厚 KrF 光刻胶 。自 2022 年起，他一直在开发用于下一代光刻技术的新型光刻胶。他已发表18篇论文并拥有超过150项专利，并于2015年获得日本化学会技术开发奖。

报告内容

负显影 (Negative-tone-imaging, NTI) 工艺是一种创新的图形化解决方案，可在先进的 ArF 浸没式和 EUV 光刻中实现基于碱性显影液的成像系统限制之外的图形缩小。在使用 ArF 浸没式曝光进行 45 纳米密集孔 和 38 纳米沟槽图形化时，负显影工艺在分辨率和线宽粗糙度 (Line-width Roughness, LWR) 方面展现出优势。然而，在‌EUV曝光‌中，图形坍塌与线路桥接缺陷限制了其在20 nm半节距线空图形上的分辨率。为满足性能要求，我们开发了一款专用的 EUV NTI 显影液 DP819A 和一种新型 NTI 光刻胶，其中包含与光可分解淬灭剂相连的光酸产生剂 (PAG connected photo-decomposable quencher, PCP)。

第九届国际先进光刻技术研讨会

第九届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning  Solutions）将于2025年10月14~15日在深圳举办，本次会议特别邀请到了FUJIFILM Corporation的Dr. Hideaki Tsubaki进行报告。

第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共赴这场光刻技术领域的学术盛宴！

IWAPS依托中国创新沃土，搭建全球交流平台。在国内外光刻专家的鼎力支持下，在全球企业、高校、协会等的共同推动下，IWAPS持续构建覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻、系统协同优化及新型技术等全产业链的尖端技术对话平台。

本届盛会特别依托深芯盟的产业集群优势，汇聚深圳及湾区半导体企业、高校与科研机构的协同力量；同时联动湾芯展的产业生态资源，为全球领军企业提供展示创新蓝图的舞台，为科研院所搭建核心技术攻关的交流通道，为青年学者创造技术思辨的活跃氛围，更为投资机构提供洞察粤港澳大湾区半导体机遇的前瞻窗口。

第九届IWAPS计划于

2025年10月14-15日在深圳

与湾芯展同期举办

请于10月13日报到

期待金秋十月与大家相聚！

欢迎各位学术和产业届的朋友

莅临指导，积极投稿演讲

与IWAPS 2025同期举办的湾芯展将于10月15日-17日在深圳会展中心(福田)举办，展会聚焦服务芯片设计、晶圆制造、先进封测三大产业链，以打造中国半导体自主品牌第一展为目标，聚焦半导体全产业链生态构建，通过“展览展示、峰会论坛、奖项榜单、双招双引、研究报告”五位一体模式，有效推动产业资源整合与创新合作。与IWAPS 2025的联动，将为参会者带来“学术研讨+产业展示”的一站式体验，实现技术交流与产业对接的无缝融合。