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大话芯片讯，9月2日消息，近日，台湾地区高等检察署针对一起引发半导体行业地震的商业机密泄露案，展开了一场重大的法律行动。三名涉嫌窃取台积电2纳米制程核心技术资料的工程师被正式起诉，案件已移送至台湾知识产权法院进行审理。
涉案人员分别为陈力铭、吴秉骏与戈一平，检方建议对他们分别判处7至14年有期徒刑。三人出庭时全程保持沉默，对媒体的提问一概不予回应，这也是事件曝光后他们首次公开露面。
离职工程师“里应外合”，一年半持续窃密
据台湾联合新闻网报道，这起案件的核心人物陈力铭，曾就职于台积电12厂良率部门，深度参与先进制程技术相关工作，对公司的保密机制了如指掌。2023年下半年，陈力铭从台积电离职，随后加入了台积电的关键设备供应商——日本东京电子（TEL），担任行销职务。
检方经过深入调查发现，陈力铭离职后，利用与在职工程师吴秉骏、戈一平的旧日关系，从2023年下半年开始，在长达一年半的时间里，多次要求二人非法获取台积电内部的核心技术资料。吴秉骏和戈一平通过拍摄、复制等手段，将涉及2纳米制程的关键参数、工艺流程等敏感信息传递给陈力铭。陈力铭再将这些机密信息转交给东京电子，目的是帮助东京电子优化其蚀刻机设备的性能。
台积电风控体系发力，内部监控成“防火墙”
此次泄密事件能够得到及时遏制，得益于台积电强大的内部风控体系。台积电通过数据访问日志监控，敏锐地察觉到吴秉骏与戈一平存在异常调阅核心资料的行为。公司随即迅速启动内部稽查程序，在固定相关证据后，第一时间向检方报案。
台湾检方经过数月的深入调查，调取了通讯记录、文件传输痕迹以及电子设备数据等大量证据，最终确认三人的行为已经构成《营业秘密法》与《刑法》中的“窃取营业秘密罪”，并且情节严重，对台湾半导体产业的竞争力造成了危害。因此，检方主张依法对三人从重惩处。
2纳米制程：全球半导体“技术珠峰”，仅四家竞逐
2纳米制程目前仍是全球半导体产业的“技术珠峰”，全球仅有台积电、三星、英特尔和日本Rapidus四家企业明确投入研发。台积电原计划于2025年下半年启动2纳米制程的量产，这被视为其延续先进制程领先优势的关键一战。
此次核心技术外流事件，不仅可能影响台积电的量产节奏，更可能为竞争对手提供宝贵的技术参考。尤其是在蚀刻精度、良率控制等关键环节，存在被竞争对手“逆向借鉴”的风险。尽管目前尚无证据表明技术已经流入三星或中国大陆企业，但此次泄密事件已经引发了业界对供应链安全和人才流动风险的高度警惕。
设备商卷入风波，产业链信任面临考验
值得注意的是，此案首次将半导体设备供应商推上了风口浪尖。东京电子作为全球领先的半导体设备商，虽然在此次案件中未被直接起诉，但其员工涉嫌接收并利用台积电的机密信息，这一行为可能对其与台积电长期建立的合作关系造成严重冲击。
业内专家指出，随着制程不断微缩，对设备的依赖程度日益加深，设备商与晶圆厂之间的技术互动也变得越来越紧密。在这种情况下，如何在合作过程中守住“信息防火墙”，将成为产业链安全管理的新课题。
结语：技术护城河，始于制度，毁于疏忽
台积电一直以来以严密的知识产权保护体系著称，然而此次却被“内鬼+旧谊+外力”这一链条突破，这无疑为整个行业敲响了警钟。再先进的技术护城河，也可能因为一人之私、一次信任的滥用而出现裂痕。此案不仅仅是一起普通的刑事案件，更是对全球高端半导体生态安全的一次深刻警示——在技术竞争日益激烈的今天，最终比拼的是制度、文化与执行力。
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