英诺赛科氮化镓在多个重要领域获得应用突破!

充电头网 2026-01-23 00:10
英诺赛科氮化镓在多个重要领域获得应用突破!图1

前言

英诺赛科作为氮化镓技术的领军企业之一,通过不断创新,推动了800VDC架构、储能系统、太阳能技术以及新能源汽车等多个领域的技术推进旗下氮化镓产品解决了传统硅基器件在高功率密度和高频率应用中的诸多瓶颈,同时有助电源大幅提升了系统效率,降低了能量损耗。通过这一系列创新,英诺赛科正在重新定义现代电力系统的设计思路,推动能源行业向着更高效、更环保的方向迈进。为此本文将深入探讨英诺赛科在多个领域的技术突破读者解析英诺赛科旗下氮化镓创新应用

800VDC服务器领域

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英诺赛科凭借其先进的氮化镓产品链路,成为英伟达800VDC架构建设的重要合作伙伴。800VDC架构旨在通过高效的电源转换系统解决数据中心的高功率密度和空间占用问题。氮化镓器件在该架构中能够显著提升系统效率、降低能量损耗,并推动架构的高频率和紧凑设计。此外英诺赛科是唯一能够同时量产中高低压氮化镓器件的公司,其技术助力英伟达将800VDC架构从蓝图变为现实,预计将显著提高数据中心的能效,减少碳排放,并支持AI算力的快速增长。

太阳能储能领域

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近期,英诺赛科推出的100V双面散热En-FCLGA封装系列产品——INN100EA050DAD和INN100EA070DAD,通过其超低的导通电阻和极低的开关损耗,在太阳能和储能系统中带来了显著的效率提升。相比传统封装,双面散热设计提高了热导率65%,显著降低了工作温度和能量损耗,从而提升了整体系统效率,尤其在36V至80V的输入条件下,系统效率达到95.5%以上。这些创新技术让太阳能微型逆变器、储能系统和最大功率点跟踪优化器的性能得到了显著优化。

英诺赛科的En-FCLGA封装具备优秀的热性能,适用于空间受限的应用场景。双面散热方案提升了系统的可靠性和稳定性,同时使得PCB布局更为简洁,减少了寄生电阻的影响。通过这些创新,英诺赛科的GaN产品在降低系统损耗、提升响应速度和功率密度方面展现了巨大优势,为太阳能和储能领域的高效应用开辟了新的可能性。

BMS系统

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充电头网了解到英诺赛科的双向VGaN在BMS电池管理系统中的应用显著提升了系统效率与可靠性。英诺赛科双向VGaN单颗即可取代传统两颗背靠背硅MOSFET,实现双向导通与截止功能,同时导阻低至mΩ,有效降低导通损耗,并简化电路布局,缩小PCB占板面积达33%以上,从而减少整体系统体积与BOM成本。

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此外,该系列氮化镓器件击穿电压裕量更大,实际测试最高可达180V,远超标称144V,提供更高的安全裕量,降低异常情况下电路故障风险;同时结合英诺赛科自家专用驱动芯片的优化配合,进一步降低温升、提升散热性能,并减少系统散热需求,适用于高电流储能、电动工具及轻型电动车辆等场景,推动BMS方案向高效、紧凑与低成本方向演进。

新能源汽车OBC

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近期联合动力与英诺赛科携手推出的新一代6.6kW GaN车载二合一电源产品,将车载OBC与车载直流变换器高度集成。该系统通过全局效率优化设计,结合英诺赛科650V高压GaN功率器件的低开关损耗和高频特性,显著提升了充电效率和功率密度。相比同类产品,整机功率密度提高30%,达到了4.8kW/L;综合效率提升超过2%,整机重量降低20%。这一创新应用为新能源汽车提供了更高效率、更轻便的解决方案。

手机电池充电保护

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充电头网了解到OPPFind X7手机内部采用的英诺赛科VGaN双向导通氮化镓芯片,其具备无体二极管、低导通阻抗等特性,到目前为止是全球唯一内置到手机主板,并实现终端量产的氮化镓芯片。利用一颗VGaN代替传统手机内部的两颗背靠背Si MOS,实现了更低导通损耗的手机电池充、放电功能,同时大幅节约手机内部空间保证手机在充电过程中更高效,更安全

全氮化镓PD快充

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充电头网了解到以往PD充电器主要初级侧使用氮化镓,而在次级同步整流也使用氮化镓器件取代传统硅器件,可以获得更高的功率密度和能效。

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传统硅MOS做次级同步整流时,其输入电容大、体二极管反向恢复慢,频率一旦拉高,驱动损耗和反向恢复损耗都会上升,但换用英诺赛科VGaN氮化镓可解决上述问题。使用氮化镓代替传统硅MOS,器件的输入电容大大减小,高频驱动的功耗也将明显降低进一步降低温升提升产品功率密度

显卡扩展坞

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充电头网了解英诺赛科高压氮化镓用作LLC开关管相比传统硅基器件,换用氮化镓可以显著减少功率损耗,降低电源发热能够减少热量积累,降低电源发热对于GPU影响同时有助于降低扩展坞散热压力以及噪音确保系统稳定运行。

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另外氮化镓的自身特性使得它能在更小的体积内提供更高的功率输出有助于实现更加紧凑的设计,提升产品本身便携性

充电头网总结

充电头网了解到从800VDC服务器电源架构的落地推进,到太阳能储能系统,再到新能源汽车与BMS系统的高效电源解决方案随着英诺赛科旗下产品矩阵技术的不断成熟与应用的深化,英诺赛科能够为行业带来更加绿色环保高效的解决方案。

大会预告

世界氮化镓大会由GaNFET.com网站举办,将于7月31日(周五)在深圳市南山区科苑路15号科兴科学园B栋4单元会议中心举办。氮化镓技术的未来图谱正在此绘就。这里,全球产业的决策者与创新者同频共振,以前沿洞察驱动技术跃迁,共同校准下一代增长的频率。

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世界氮化镓大会由GaNFET.com网站举办,每年固定于世界氮化镓日(7月31日)在粤港澳大湾区的核心创新引擎深圳市举行。大会专注氮化镓半导体前沿技术,致力于打造推动技术突破与产业合作的核心平台。凭借其对氮化镓技术趋势的精准把握和全产业链的深度整合,已成为全球第三代半导体领域最具前瞻性的行业盛会之一。大会汇聚了全球产业链的决策者与创新力量,更定义了氮化镓技术的未来议程,是洞察趋势、建立合作、抢占技术制高点的必然选择。

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