备受全球半导体行业关注的第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2025）正式官宣，将于10月14日-15日在深圳与湾芯展同期举办。这场由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办的行业盛会，将汇聚全球光刻领域的顶尖专家、企业领袖与科研精英，共同探讨光刻技术前沿趋势，推动产业创新合作。第九届国际先进光刻技术研讨会
特邀嘉宾介绍（IWAPS 2025）
Dr. Linyong (Leo) Pang
D2S, Inc.
Dr. Linyong (Leo) Pang自2014年起一直担任D2S公司的首席产品官兼执行副总裁，领导TrueMask®掩模数据处理产品以及基于GPU加速的新一代全芯片曲线逆向光刻技术（ILT）产品的开发。加入D2S之前，Dr. Pang曾担任Luminescent Technologies公司的总经理兼唯一的高级副总裁。Dr. Pang自2004年Luminescent公司创始之初就加入了其高管团队，在产品、技术、营销和客户方面担任领导职务，直至该公司最终被科磊（KLA-Tencor）收购。他最为业界所知的是将曲线反演光刻技术（“ILT” 这一缩写正是由他提出）引入光刻和光掩模领域。他在电子设计自动化（EDA）和半导体领域的开创性工作始于2000年，他曾发明了Numerical Technologies公司的i-Virtual Stepper系统，该系统被《Semiconductor International》杂志授予“2001 Editors' Choice Best Product Award”。在加入Luminescent之前，Dr. Pang曾在Numerical Technologies及并购后的新思科技（Synopsys）公司担任多个产品开发和营销管理职位，还在Acuson公司担任研究科学家职务，并在那里发明并开发了世界上首个基于GPU加速的实时扩展视野超声诊断产品。迄今为止，Dr. Pang已拥有38项已授权专利、27项待批准专利，并发表过90篇学术论文。Dr. Pang于2023年被授予国际光学工程学会会士（SPIE Fellow）称号。Dr. Pang在斯坦福大学 获得了机械工程博士学位，同时拥有计算机科学硕士学位。
反演光刻技术（Inverse Lithography Technology, ILT）长期以来被认为具有提升先进节点图案保真度和工艺窗口的潜力。然而，由于历史性的运行时间限制、分区边界问题以及掩模制造问题，ILT 一直被局限于热点优化应用。2019年，D2S 发布了其基于GPU加速的全芯片无拼接ILT解决方案，以应对ILT面临的挑战。近年来，随着多电子束掩模写入设备即使在成熟节点也得到了采用，D2S的TrueMask ILT® 凭借其速度和操作简便性，已成为光学邻近效应校正（OPC）的强大替代方案，即使是对于成熟节点亦是如此。本文阐述，ILT已不再是一种局限于特定领域的技术，而是一种掩模制造与晶圆生产上均属可用的全芯片解决方案，在运算速度、操作简便性乃至掩模制造方面均优于传统的OPC。借助围绕新颖的SIMD计算框架构建的无拼接、GPU加速架构，全芯片曲线ILT在特定情况下甚至比传统OPC更快，并能在掩模保真度和晶圆印刷结果上带来更优的表现。面向整个掩模的曲线掩模制造技术现已在商业掩模厂中准备就绪。它在晶圆厂中，无需额外的基础设施变更（既不需要极紫外光刻（EUV），也不需要更换光刻机或其他设备），并与所有技术节点（从传统节点到使用深紫外光刻（DUV）的最先进节点）兼容。此外，在诸多光刻增强技术中，采用ILT所需的资本投入最低，同时能实现半节点至整节点的性能提升。
第九届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions）将于2025年10月14~15日在深圳举办，本次会议特别邀请到了D2S, Inc.的Dr. Linyong (Leo) Pang 进行报告。第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共赴这场光刻技术领域的学术盛宴！IWAPS依托中国创新沃土，搭建全球交流平台。在国内外光刻专家的鼎力支持下，在全球企业、高校、协会等的共同推动下，IWAPS持续构建覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻、系统协同优化及新型技术等全产业链的尖端技术对话平台。本届盛会特别依托深芯盟的产业集群优势，汇聚深圳及湾区半导体企业、高校与科研机构的协同力量；同时联动湾芯展的产业生态资源，为全球领军企业提供展示创新蓝图的舞台，为科研院所搭建核心技术攻关的交流通道，为青年学者创造技术思辨的活跃氛围，更为投资机构提供洞察粤港澳大湾区半导体机遇的前瞻窗口。第九届IWAPS计划于
2025年10月14-15日在
深圳五洲宾馆举行
请于10月13日报到
欢迎各位学术和产业届的朋友
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https://biaodan100.com/web/formview/689160d575a03c7baf1fc07c
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与IWAPS 2025同期举办的湾芯展将于10月15日-17日在深圳会展中心(福田)举办，展会聚焦服务芯片设计、晶圆制造、先进封测三大产业链，以打造中国半导体自主品牌第一展为目标，聚焦半导体全产业链生态构建，通过“展览展示、峰会论坛、奖项榜单、双招双引、研究报告”五位一体模式，有效推动产业资源整合与创新合作。与IWAPS 2025的联动，将为参会者带来“学术研讨+产业展示”的一站式体验，实现技术交流与产业对接的无缝融合。
“光刻人的世界”公众号近期将陆续对本次会议受邀嘉宾和他们带来的报告进行介绍，敬请大家关注。
