近日，一个振奋人心的消息传来：中国第一台商业级“纳米压印光刻机”在杭州宣告研制成功！这一成果，犹如在黑暗中点亮了一盏明灯，为我们的芯片产业带来了新的希望。
ASML 的 EUV 光刻机，其工作原理类似于一台超高精度的投影仪，将复杂的电路图精准地“投射”到芯片上，从而实现芯片的制造。而杭州璞璘科技研发的这台纳米压印光刻机，则采用了截然不同的“铭刻”方式，就像用“印戳”盖章一样直接高效。技术人员先将电路图精细地刻制到一个超精密的模板上，然后蘸上特殊的光刻胶，轻轻一“盖”，电路图就完美地呈现在芯片上。
从“摄影”到“印戳”的转变，蕴含颠覆性创新，实现“弯道超车”。EUV 光刻机是“电老虎”，我们的“盖章”式光刻机耗电量仅其十分之一，设备成本也大幅降低，让中小企业能涉足高端芯片领域，注入新活力。
性能上，该机器最细线条不到 10 纳米，比日本佳能同类设备更精细。不过，“盖章”速度是 EUV 一半，且“印章”易磨损影响良品率。
但它适用于手机电脑内存、固态硬盘等对速度要求不高、对成本敏感的产品，未来或让固态硬盘更便宜，惠及消费者。
三年前，ASML 的老板还曾放狠话，断言我们造不出 EUV 光刻机。然而，我们并没有陷入他们设下的思维陷阱，而是另辟蹊径，用一种更聪明、更经济的方式，成功抵达了“10 纳米”这一技术高地。这一成果让 ASML 开始感到慌乱，去年他们在中国市场的利润占总利润的 36%，为了保住这一重要市场，今年还悄悄地扩建了在北京的维修中心。嘴上依旧强硬，但行动却暴露了他们内心的担忧，因为他们深知，这个庞大的市场，他们丢不起。
开辟“秘密小径”的不止杭州璘科技。浙大科研团队钻研“电子束光刻”，精度达 0.6 纳米；上海微电子优化 ArF 光刻机，性能至 8 纳米；哈工大、清华等高校团队死磕 EUV 光源技术。
这是一场全民科技攻坚战，大路被堵，我们派出多支“登山队”四面冲锋。杭州“盖章”小分队率先报喜，这不仅是机器成功，更宣告封锁难挡我们，堵一路能开十路！
在攀登“芯片之巅”时，我们陷入绝境。通往山顶的唯一坦途被 ASML 及其 EUV 光刻机封锁，它还傲慢嘲讽，过去数年我国芯片产业发展艰难。
但困境未磨灭斗志，杭州璞璘科技如无畏勇士，不与 ASML 在堵死的大路硬刚，而是转向悬崖峭壁，以坚韧与勇气开凿出全新“秘密小径”。
虽然前方的道路依然漫长，还有许多艰难险阻等待我们去克服，还有许多硬骨头需要我们去啃。但从 0 到 1 的突破，永远是最难、也是最伟大的一步。我们有理由相信，在全体科研人员的共同努力下，我国芯片产业必将迎来更加辉煌的明天，在全球科技竞争中占据一席之地。朋友们，对于杭州这次“盖章式”的换道超车，你们又有怎样的看法呢？
