北方华创发布12英寸先进低压化学气相硅沉积立式炉设备

12英寸先进低压化学气相硅沉积立式炉设备

北方华创发布 SICRIUS PY302 系列 12 英寸低压化学气相硅沉积立式炉设备，面向高端逻辑与存储芯片领域，攻克高深宽比结构填充、高平坦度薄膜生长及兼容低温工艺三大瓶颈。

该设备通过低压反应腔等技术实现无缺陷填充与高台阶覆盖率，以全石英腔室等设计将膜厚均匀性和粗糙度控制在原子级，还集成多种先进工艺功能，降低器件缺陷率。

目前，设备已通过多家领先晶圆厂验证，实现规模量产并获重复订单。作为平台型企业，北方华创持续聚焦核心装备技术迭代，助力中国半导体产业发展。