英国经济学家：就算中国造出光刻机，也永远无法量产，他们缺少我们提供的灵魂材料

近日，一位英国经济学者在学术与媒体场合引发争议性言论：即便中国研发出了光刻机核心设备，他们还是永远无法实现量产，因为缺少我们供应的灵魂材料。这一观点迅速成为舆论与产业界讨论的焦点，并引发了对于国际光刻机产业链、技术壁垒与中国自主突破之间关系的深层次思考。

这种论调显然带有西方产业先发者的骄傲——不仅强调自己的技术优势，还试图通过“关键材料不可替代”来构建一种技术霸权。然而，事实远比这种片面描述复杂，尤其是在光刻机这个被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”的高度复杂系统中。

要理解这位英国学者的说法，首先要知道光刻机在半导体制造中的角色。所谓光刻（Lithography），就是用特定波长的光将设计好的电路图案转移到涂有光刻胶的硅片表面，然后经过显影、刻蚀等一系列工序，形成微小的晶体管与连接线路。光刻作为晶圆制造流程中最核心的一步，不仅决定设备的分辨率，还直接影响芯片的性能、良品率与制造成本。

光刻机本身是一台集光学、机械、电控、真空系统以及化学材料等领域之大成的超复杂设备。尤其到了先进制程（例如7nm、5nm及更小节点），对光源、掩膜版、光刻胶、真空环境和超精密材料的要求几乎是极限挑战。行业中常将高端EUV（极紫外光刻）机比喻为“工业界的劳斯莱斯”。

这位英国学者所谓的“灵魂材料”，从产业链角度讲，并不是毫无根据，却也带有明显的西方自信甚至傲慢。

全球光刻机产业链极为分散，据公开产业分析，光刻机包含数万个零部件，来自全球数千家供应商。欧美日技术和供应商在其中占据重要地位，例如：英国供应商提供高性能聚合物和真空系统部件，确保光刻设备在极端洁净与真空环境下稳定工作；美国与荷兰主导光源、光学系统；日本则在精密材料、掩膜基板等方面具有领先地位。

这样的全球分工让某些国家确实握有关键材料与组件的供应优势。尤其是高精度真空材料与高性能聚合物零件——这些看似不起眼的“材料”实际上是保持极紫外光刻机真空腔体完整性的基础。在英国与其他欧美供应商那里，一些高端材料比如PTFE、PEEK、PI等用于制造密封件、绝缘体、对准夹等关键部件。

从这层意义上，英国学者强调材料的重要性并非全无道理。不过，将这些材料拔高到“灵魂材料”，并用来暗示“没有我们，中国永远不能量产”，这本质上是一种骄傲的产业霸权话语——意在以材料供应链控制为筹码，维护现有技术垄断格局。这种论断忽略了两点：光刻机整体性能并非只靠单一材料决定，其核心挑战在于系统集成与整体优化能力；现代材料研发在中国也在高速发展，中国科研机构与企业正在不断突破高端材料和精密组件的开发。

尽管在EUV光刻机领域，中国目前仍未达到领先水平，但在光刻机整体技术与材料供应链上，中国已经实现了多个重要突破：

中国企业在深紫外（DUV）光刻机的研制上取得了突破性进展。例如，中国自研的DUV光刻机已达到可生产8nm及以下晶片的水平，并逐步缩小与国际先进水平的差距。这标志着国产光刻设备研发已从追赶初级阶段迈向实用化应用阶段。

此外在中端光刻机（如65nm级别ArF设备）上，中国厂商已实现与国际同类产品相近的性能指标，显示国产设备的可靠性和量产能力在稳步提升。

光刻中的关键材料不仅包括设备组件，还包括光刻胶、掩模（Photomask）用的高纯石英基板等。长期以来，石英基板市场高端部分被日韩巨头垄断，使中国在高端材料上受到制约。

不过，国内材料企业正加快突破国产高端石英基板与光刻胶研发，随着国内半导体产业链不断完善，这些材料的国产化率正在提升——为光刻设备的可控生产与量产提供了根本性支撑。

中国不仅在设备制造方面投入巨资，更通过政策引导与产业协同构建了完整的光刻机供应链，从基础材料到核心组件、从真空系统到精密机械，都实现了跨领域协同创新。这意味着中国不再被动依赖单一国家的供应链，而是构建一种更加自主、更具韧性的材料供给体系。

尽管取得了突破，中国在光刻机相关材料与生产能力方面仍存在显著不足：真正意义上最顶尖的EUV光刻机，目前全球只有荷兰ASML能够量产。中国尚未实现同等级EUV设备的量产与稳定供应，这其中涉及极紫外光源、极精密反射镜与整体系统集成技术的突破，这是目前中国光刻机研发中最关键的挑战。

尽管国产化率在提升，但一些高端石英基板、高纯化学品、高性能光刻胶和光学组件等材料仍依赖进口长期积累的技术优势。尤其是在高NA EUV系统的材料需求上，中国尚需时间和巨额研发投入来追赶。

英国经济学者提出的话题，是全球科技竞争与供应链博弈的一个缩影。从某种意义上讲，这种论调反映了发达国家在高科技领域维护自身优势的心理与商业逻辑；但若将其作为论断事实加以传播，就容易忽视技术发展的复杂性与合作性。

光刻机不仅是设备，更是一整个全球技术生态的协作成果。西方国家在部分关键材料上确实长期领先，但中国通过自身研发与供应链建设正在逐步消除差距。未来半导体产业的发展，将不再属于某一个国家的独享，而是一种全球共同进步的过程。正如业内观察者所指出的，随着中国市场需求和自主能力的增长，全球光刻机市场正在重新洗牌。

因此，与其用“永远无法量产”这样的论断来制造对立，不如以实事求是的态度看待技术竞争：合作与竞争并存，突破与自主是长期发展之路。中国的光刻技术发展正在迈出坚实的步伐——它不会被简单的片面论断所轻易定义。