百年光学巨头尼康巨亏850亿日元，光刻机业务全面溃退

【区角快讯】日本光学企业尼康于2026年3月29日发布2025财年业绩预警，预计净亏损高达850亿日元，创下自1917年成立以来的历史最差纪录。

过去六个月，该公司光刻机业务仅交付9台设备，且全部为面向成熟制程的老旧型号，在先进制程领域已完全丧失技术竞争力。按销售额计算，其全球市场份额已滑落至个位数水平。

同期，荷兰光刻机龙头ASML出货总量达327台，其中包含48台高端EUV光刻机，牢牢掌控全球先进制程设备市场主导权。

尼康的衰落可追溯至两次关键性战略误判。2002年，台积电工程师林本坚提出浸没式光刻技术方案，旨在突破193nm干式光刻瓶颈，但遭尼康全盘拒绝。彼时尼康已在157nm干式路线投入数亿美元，不愿转向新路径。该技术随后被ASML采纳，并于2004年联合台积电推出首款商用浸没式光刻机，迅速主导市场，尼康再难追赶。

在地缘政治影响下，尼康选择配合美国对华半导体出口管制政策，主动切断与中国市场的深度合作。而中国曾是其最大单一市场，设备对华销售占比一度超过40%。此举不仅导致交付周期延长、成本激增，更促使中国客户加速转向本土替代方案，进一步压缩其生存空间。

此外，尼康长期过度依赖英特尔单一客户，2024年后者大幅削减资本支出，直接引发尼康订单断崖式下滑，且未能及时拓展台积电、三星等关键代工厂客户。

在极紫外（EUV）光刻机研发方面，尼康坚持“全自研、全日本产”策略，累计投入逾千亿日元，最终仅产出无法商业化的原型机，并于2018年正式终止EUV业务的商业化进程。

2025年9月，尼康关闭已运营58年的横滨工厂，标志其光刻机业务进入持续收缩阶段。

在全球半导体设备高度集中化与技术迭代加速的背景下，缺乏生态协同与战略灵活性的传统巨头正面临系统性边缘化风险。