汇集半导体行业资讯 技术前沿、发展趋势！
全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”
1、核心突破：全国首台国产商业电子束光刻机 “羲之” 在杭州进入应用测试，精度比肩国际主流设备，为量子芯片研发装上 “中国刻刀”。
2、技术特点：以高能电子束在硅基上 “手写” 电路，精度达 0.6nm、线宽 8nm，无需掩膜版且可灵活修改设计，适配芯片研发初期反复调试需求。
3、命名由来：因精密 “书写” 能力与书法家王羲之的毛笔神韵相契合而得名。
在测试现场，浙大余杭量子研究院团队围绕着一台形似大型钢柜的设备紧张工作，其电子显示屏上参数闪烁。这台由研究院依托省重点实验室自主研发的新一代 100kV 电子束光刻机 “羲之”，已正式推向市场。取名 “羲之”，是因为它如同书法家王羲之的毛笔一般，能精密 “书写”，只不过它的 “毛笔” 是电子束，用于在芯片上刻写电路。
该设备主要用于量子芯片、新型半导体研发的关键环节，通过高能电子束在硅基上 “手写” 电路，精度可达 0.6 纳米，线宽 8 纳米，且能灵活修改设计图案，无需传统光刻所需的掩膜版，如同用纳米级毛笔在芯片上精准作画，尤其适合芯片研发初期的反复调试工作，极大地提升了调试效率。
此前，这类设备受到国际出口管制，国内顶尖科研机构和企业长期无法采购。“羲之” 的落地，打破了这一困局，并且其定价低于国际均价，目前已与华为海思等企业及多家科研机构展开接洽。
“羲之” 的成功，背后是科技创新与产业创新 “两新融合” 的推动。今年 7 月，省级教育科技人才一体改革专项试点项目在位于余杭区的浙江大学校友企业总部经济园落地，浙江大学与园区携手搭建成果转化高速路，通过企业提需求、教授带团队揭榜、政府全流程陪跑的模式，助力科研成果落地。
在杭州城西科创大走廊，科技创新与产业创新的融合已成为常态。院士工作站入驻城投未来之星办公楼，对接企业需求；城西科创大走廊持续开展优秀概念验证项目征集，打通成果转化 “最先一公里”。未来，城西科创大走廊将继续推动 “两新融合”，加速硬科技突破，促进科技成果转化为现实生产力。
*声明：本文系原作者创作。文章内容系其个人观点，我方转载仅为分享与讨论，不代表我方赞成或认同，如有异议，侵权欢迎联系我们删除！
▎往期推荐
