
备受全球半导体行业关注的第九届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS 2025)正式官宣,将于10月14日-15日在深圳与湾芯展同期举办。这场由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办,中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟(深芯盟)、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办的行业盛会,将汇聚全球光刻领域的顶尖专家、企业领袖与科研精英,共同探讨光刻技术前沿趋势,推动产业创新合作。第九届国际先进光刻技术研讨会
特邀嘉宾介绍(IWAPS 2025)
Paul Scherrer Institute
Prof. Yasin Ekinci是保罗谢尔研究所 (Paul Scherrer Institute) X射线纳米科学与技术实验室主任。该实验室拥有6个研究小组,约80名研究人员,并运行3条同步辐射和X射线自由电子激光(FEL)光束线。他在德国哥廷根的马克斯-普朗克研究所(Max-Planck Institute)获得博士学位。他致力于多个纳米科学和技术领域的研究,包括原子光学、表面科学、极紫外光刻、光刻胶材料、相干散射、无透镜成像、等离子激元、超材料、半导体纳米结构、生物传感器和纳流体学。他撰写/合著了超过300篇出版物,包括论文、专著和专利。他获得了Swiss Society for Optics and Microscopy颁发的青年研究者奖。他还是国际光学工程学会的会士(SPIE fellow)。
光学计量在半导体制造中发挥着至关重要的作用,它有助于工艺开发和良品率优化。极紫外(EUV)光为计量学提供了独特的优势,包括其用于高分辨率的短波长及其光敏特性,这使得对 EUV 掩模的精确成像成为可能。相干衍射成像(CDI)技术,也称为无透镜成像,通过提供灵活性和成本效益,进一步提升了计量能力。在本次演讲中,我将回顾我们在极紫外无透镜成像应用于掩模检测、晶圆计量和混合键合分析方面的最新进展。我还将重点介绍如何集成机器学习技术以提升性能并拓展 EUV 计量的能力。
第九届国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions)将于2025年10月14~15日在深圳举办,本次会议特别邀请到了Paul Scherrer Institute的Prof. Yasin Ekinci进行报告。第九届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS)由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办,中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟(深芯盟)、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办,诚邀全球业界精英共赴这场光刻技术领域的学术盛宴!IWAPS依托中国创新沃土,搭建全球交流平台。在国内外光刻专家的鼎力支持下,在全球企业、高校、协会等的共同推动下,IWAPS持续构建覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻、系统协同优化及新型技术等全产业链的尖端技术对话平台。本届盛会特别依托深芯盟的产业集群优势,汇聚深圳及湾区半导体企业、高校与科研机构的协同力量;同时联动湾芯展的产业生态资源,为全球领军企业提供展示创新蓝图的舞台,为科研院所搭建核心技术攻关的交流通道,为青年学者创造技术思辨的活跃氛围,更为投资机构提供洞察粤港澳大湾区半导体机遇的前瞻窗口。2025年10月14-15日在深圳
与湾芯展同期举办
请于10月13日报到
与IWAPS 2025同期举办的湾芯展将于10月15日-17日在深圳会展中心(福田)举办,展会聚焦服务芯片设计、晶圆制造、先进封测三大产业链,以打造中国半导体自主品牌第一展为目标,聚焦半导体全产业链生态构建,通过“展览展示、峰会论坛、奖项榜单、双招双引、研究报告”五位一体模式,有效推动产业资源整合与创新合作。与IWAPS 2025的联动,将为参会者带来“学术研讨+产业展示”的一站式体验,实现技术交流与产业对接的无缝融合。
“光刻人的世界”公众号近期将陆续对本次会议受邀嘉宾和他们带来的报告进行介绍,敬请大家关注。