展商推介 | 芯米半导体将亮相2026湾芯展

芯米半导体2019年1月成立于厦门火炬高新区（翔安）产业区，厂房2500㎡，研发实验室近1000㎡，为厦门市 “双百人才” 落地企业、国家高新技术及专精特新企业，是国内首家COWOS工艺专用涂胶显影设备供应商，也是国内自研 12 吋涂胶显影设备核心力量。

公司技术源自三十余年涂胶显影设备研发经验，研发团队从业资历均超20年，汇聚多领域专业人才，具备深厚黄光微影制程工艺积累，累计拥有专利100项，发明专利42项。

企业实现涂胶显影机90%核心部件自主研发，关键零部件国产化率超90%，打破国外垄断，核心模块拥有自主知识产权，参数达国际先进水平，可批量生产2‑12吋全系列产品。

芯米（厦门）半导体专注于光刻制程涂胶、显影、清洗 Coater & Developer & Cleaner 设备及配套方案，提供半导体光刻制程技术服务与整体工艺解决方案，拥有 XM‑300、XM‑200、XM150、IDM/LAB 四大设备系列，覆盖 2‑12 英寸晶圆生产需求。

XM‑300 系列适配 8‑12 吋晶圆，XM‑200 系列支持 6‑8 吋晶圆，XM150 系列面向 2‑8 吋工艺，IDM/LAB 系列兼顾 2‑12 吋研发小批量场景，各系列可灵活配置冷盘、热盘数量，满足不同产能需求。设备兼容圆形晶圆与方形衬底，可选 Spin Coater、Spray Coater 机型。

设备关键零部件国产化率 90% 以上，适配 i‑line、G‑line、KrF、PI、SOG、SOC 等多种工艺。产品通过 SEMI S2 认证，预留 SECS/GEM 接口，可对接客户 EAP 系统，支持定制化开发与模块化组合，为半导体制造客户提供高可靠的国产光刻涂胶显影整体解决方案。

PR Filter Pre‑Wet Station 光阻过滤器预湿系统，面向半导体黄光制程，用于光阻过滤器安装至涂胶显影设备前完成离线预湿处理，有效降低光刻胶损耗，减少颗粒对良率的干扰，提升机台稼动率。

设备通过供液泵输送 PMA 等专用溶剂，经由药液回路、阀组及 AMC/ACRD 清洗接口浸润过滤器疏水滤膜，将滤膜转为亲水状态，排净溶剂并循环浸润。过滤器上机后仅需少量光刻胶即可稳定工作。

本设备支持单支或多支过滤器批量清洗，搭载 IWAKI 泵与 CKD 阀门保障药液精密输送，可灵活配置清洗及药液循环模式。配备 15 英寸触控人机界面，支持自定义清洗工艺配方，搭配手持式扫码枪识别过滤器 ID；具备 SECS2/GEM 通讯接口，可对接工厂 CIM 系统，符合 SEMI S2/S10 安全规范。

设备实现自动化离线作业，提升生产效率，依托药液循环减少化学品消耗，降低整机拥有成本 CoO，为半导体光刻工艺提供可靠预处理解决方案。